第127章 人類造物的巔峰
cpu——被譽為人類造物的巔峰。
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當然，這個說法可能並沒有經過準確的科學論證，但是也能從中看到晶片製造確實是最頂尖，科技含量最高的產業之一。
以新冠病毒為代表的病毒，其整體尺寸一般在30-80nm。
Intel長期被人嘲諷」已經落後「的工藝製程為14nm。
而最先進的手機晶片甚至已經到了3nm。
雖然相比生物體來說，晶片的複雜性相對較低，但是想做到細菌，病毒等生物體的同等尺寸也是絕不容易的。
……
談及晶片製造就離不開「光刻機」——這個人類尖端科技的集大成者。
1956年，我國第一隻晶體三極體誕生，自此與發達國家一樣，中國也進入半導體新紀元。此時距離貝爾實驗室研發的世界上第一隻點接觸三極體已經過去了9年。
1958年我國第一枚鍺電晶體試製成功。
1961年我國第一個集成電路研製課題組成立。
1962年我國第一代矽平面電晶體問世。
1965年，我國第一塊集成電路在北京、石家莊和上海等地相繼問世。其中包括中國科學院半導體研究所、河北半導體研究所（簡稱13所）、BJ市無線電技術研究所（簡稱沙河器件所）等。
1977年，中國恢復高考制度，中國年輕人被壓抑10年的悸動與渴望得到釋放，而正是在這一年，我國最早的光刻機-GK-3型半自動光刻機誕生，這是一台接觸式光刻機。
當時的美國在20世紀50年代就已經擁有了接觸式光刻機，期間相差了二十幾年，並且在一年之後，GCA又推出真正現代意義的自動化步進式光刻機（Stepper），解析度比投影式高5倍達到1微米。
此時的光刻機巨頭ASML還沒有出現，RB的尼康和佳能已於60年代末開始進入這個領域。
之後一年，改革開放，也就是1978年，1445所在GK-3的基礎上開發了GK-4，把加工圓片直徑從50毫米提高到75毫米，自動化程度有所提高，但還是沒有擺脫接觸式光刻機。
同一年，中國科學院半導體所開始研製JK-1型半自動接近式光刻機，並在1981年研製成功兩台樣機。
1982年科學院109廠的KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低，最保守估計跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年，而且從jkg系列至今仍再銷售的情況來看，都具有不錯的使用價值。
1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，通過電子部技術鑑定，認為達到美國4800DSW的水平。
按照這個時間節點算，中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年（美國是1978年）。
五十年代開了個好頭，到六七十年代的時候，中國大陸的電子工業、半導體工業僅次於美國，領先於韓、台、日。
1979年上海元件五廠和無線電十四廠甚至成功仿製英特爾公司1974年推出的8080CPU，比德國仿製成功還早一年。
一切都向著美好的方向發展，老一輩革命者和建造者奉獻自己的青春，造就了中國的半導體產業，很多資料顯示，當時中國的半導體產業雖然沒有超越當時世界最先水平，但是差距並不大。
更重要的是，打造了從單晶製備、設備製造、集成電路製造的全產業鏈，基本不依賴國外進口，也就是說，中國以一國的供應鏈去追趕整個西方發達國家聯盟的供應鏈。
要知道，當時英特爾也是用的RB的光刻機。
……
被丟失的80年代：
然而80年代來了。
1984年，實屬平常也不平常的一年，有一些東西開始悄然發生改變。脫下樸素的衣著，年輕人開始穿喇叭褲跳霹靂舞，理髮店永遠排滿人，那是個以夢為馬的年代。
同年，蘋果發布了營銷史上最偉大的電視GG《1984》
還是這一年尼康已經和GCA平起平坐，各享三成市占率。Ultratech占約一成，Eaton、P&E、佳能、日立等剩下幾家每家都不到5%。
就是這一年，日後的光刻機市場的絕對霸主ASML誕生了。
80年代底，中國開始奉行的「造不如買」的政策，一大批企業紛紛以「貿工技」為指導思想。產業拋卻獨立自主，自力更生的指導方針，盲目對外開放。
沒有頂層設計，中國的集成電路在科研，教育以及產業方面出現了脫節，中國獨立的科研和產業體系被摧毀，研發方面是單打獨鬥，科研成果轉化成產品的微乎其微。
產業在硬體上淪為組裝廠，為外資企業提供廉價勞動力；在軟體上圍繞國外製定的技術標準和技術體系馬首是瞻，軟體工程師轉變為廉價的碼農。
極其少數堅持獨立自主路線的企業，在買辦和外資的夾縫中求生存。
眼看他起朱樓，眼看他樓塌了，中國半導體在五十年代到七十年代創造的盛景成了泡沫。
覆巢之下無完卵，此時的光刻機產業又能好到哪裡去？
雖然後續一直在跟進研發，但大環境的落後加上本來就與世界先進企業有差距，縱使中國在各個時間點上都有代表性成果，卻終究沒有在高端光刻機領域留下痕跡。
……
千禧年的醒悟：
九十年代，光刻光源已被卡在193納米無法進步長達20年，科學家和產業界一直在探討超越193納米的方案。
（當然這個難點最後在2002年被台積電所攻破。）
此時的中國才剛剛開始啟動193納米ArF光刻機項目，足足落後ASML20多年。
這時候ASML已經開始EUV光刻機的研發工作，並於2010年研發出第一台EUV原型機，由三星、台積電、英特爾共同入股推動研發。
這時候的半導體產業突然活了過來，2000年之後，中國晶片進入了海歸創業和民企崛起的時代：
中星微的鄧中翰於1999年回國，中芯的張汝京於2000年回國，展訊的武平和陳大同於2001年回國，芯原的戴偉民於2002年回國，兆易的朱一明於2004年回國，他們帶著豐富的經驗和珍貴的火種，跳進了中國半導體行業的歷史進程之中。
2002年，上海微電子裝備有限公司承擔了「十五」光刻機攻關項目，中電科45所把此前從事分步投影光刻機的團隊遷到了上海，參與這個項目。
至2016年，上海微電子已經量產90納米、110納米和280納米三種光刻機，其中性能最好的是90nm光刻機。目前，我國從事集成電路前道製造用光刻機的生產廠商只有上海微電子（SMEE）和中國電科（CETC）旗下的電科裝備。
到這個節點，國際上已經放棄了157納米的光源，除ASML掌握了EUV光源技術之外，其他各家使用的都是193納米ArF光源，中國在這點上與除ASML之外的「外國」是同步的。
總結來說，中國光刻機研製起於70年代後期，初期型號為接觸式或接近式光刻機，85年完成第一台分步光刻機，此後技術一直在推進，各個時間點均有代表性成果，並未出現所謂完全放棄研發的情況，但也並沒有多大的起色。
……
不知有多少人會可惜曾經失去的80，90年代……