第二百二十三章：技術瓶頸
此時出手賣掉一部分的水果公司股票，套現的資金用來投資國內的房地產業，實在是最適合不過了。
套現的資金用來投資國內的房地產，一年之後出手獲利，那個時候水果公司的股價，正處在一個最低的位置上，只有九十多美刀一股，正適合抄底買入，進行投資。
此時的歐陽德和，手中持有百分之四點幾的水果公司股票，可以說也是一名大股東了，即便是只拋售一半的股票，也是八九千萬股了。
當初的二千五百萬股，經過拆分之後，已經是變成了一億七千五百萬股，市值二百三十多億美刀。
八九千萬股的拋售，可是一百多億美刀的交易量啊！市場的動盪，可想而知了。
雖然說歐陽德和不可能讓操盤團隊，一下子拋出巨量的賣單，甚至為了穩住股價，有時還會在低點買進一些股票，但他們的出貨量，卻是瞞不過有心人的，酷克還是馬上就知道了，有人在大量的減持手中的公司股票。
酷克當然不希望，水果公司的股價，出現很大的波動了，股價下跌太大了，會引發一系列的不良反應，引起散戶股民們的恐慌情緒，造成跟風拋售公司股票的情況發生。
一旦有大量的散戶股民，加入拋售股票的隊伍中，將會對水果公司造成很大的打擊，以及不可估量的經濟損失。
所以酷克便命公司的證券部門，吃進公司的股票，穩定公司的股價。
趙福林很快便發現了這個異常的情況，他這邊在拋售水果公司的股票，水果公司的股價居然不降反升，想不發現這個異常都很難啊！
趙福林可是對股市操盤經驗，非常豐富的一個老手了，如果連這種異常的情況都發現不了，他也就不配享受，歐陽德和開給他的千萬年薪了。
而是，水果公司的股票價格，便開始高高低低的起起伏伏了，高的時候一度突破了一百四十美刀，低的時候又跌破了一百二十美刀。多空雙方展開了一場較量。
趙福林抓住了這個機會，進行了高拋低吸，不過是高拋的時候猛拋，低吸的時候則是控制著的吸，拋多吸少。
畢竟趙福林接到的操盤指令，是以拋售股票套現為主的，而且減持的份額是不低於一半的持股量。
在執行這個減持的計劃中，如果能夠額外的增加一些收益，自然是非常不錯的了。
套現完成之後，歐陽德和手中的資金，便多出了一百五十億美金，換算成華夏幣，便是超千億元了。
這麼多的錢，當然不能全部投資到深川市的房地產市場中了。
不過二零一五年，不只是深川市的房價暴漲，還有東完市，羊城市，滬上，京城，夏門等地的房價，也都出現了暴漲。
新房限購了也沒有關係，還有二手房，而且用公司的名義收購房產，甚至是整個樓盤都收購了，也是很簡單的事情，加上用的還是現金收購，那就完全不是問題了。
星光地產集團的大動作，引起了商界的震動，這畢竟是上千億的投資啊！整個整個的新建成的住宅小區，都被星光地產集團收購了，而且還不是一個二個的小區，而是不同的城市中的好幾個小區，都被整體打包收購了。
不僅如此，還有零散的房源也不少。
一些深川，東完市的業主，到星光地產中介門店放盤時，發現他們的房子根本不用找人買，只要他們確定要賣，直接就被星光地產中介公司，現金買斷了。
既便是二手房，再過幾年也是漲幅翻倍的。
不說賺不賺錢，手中有房子，名下的企業招聘人才上，也有很大的保障了。
不說把房子免費送給公司聘用的人才，就算是用分期劃扣的分式，収回房款，免掉銀行的利息，公司的人才身上的壓力，也會輕鬆很多，並且與公司的關係，捆綁的更密切。
畢竟如果他中途離職，肯定不能繼續享受，公司給他們的住房福利，要知道購房分期付款，所要支付的利息，可絕對是一筆很大的數字。
國為公司為什麼要遷到鄰近的東完市，最重要的原因，不就是因為深川市的房價太高了嗎？
歐陽德和為什麼要到東完市買地，建家具產業園，不也是因為深川市的土地，價格太貴了嗎？
瑞陽市的星光科技園，早已經建成投產了，星光科技集團的半導體晶片公司，接到了大量國內外的客戶訂單，正開足馬力生產。
光刻機，蝕刻機等的訂單，也非常飽和，全球已經進入了移動智能化時代，晶片的市場很大，很多行業都離不開晶片，比如手機，電腦，汽車，等行業，要想升級智能化，晶片是必須用到的，而全球有能力生產晶圓的企業，是有數的，所以晶片絕對是供不應求的。
別說是整個全球了，僅華夏的市場，晶片就已經是供不應求了。
而在研發技術方面，星光科技集團也是不遣餘力的投入巨資，如今已經實現了22納米製程工藝的光刻機量產。
但浸潤式DUV光刻機的極限，也就是22納米的製程工藝了，通過重複的暴光技術，在頂級製程技術和頂級材料的配合下，勉強可以加工生產出7至5納米製程工藝的晶片。
這個技術可以說是已經超越了浸潤式光刻機的極限了，再想更精密，基本上不可能了。
而要想生產出更高製程工藝技術的光刻機，則只能是極深紫外線的EUV光刻機技術了。
而EU∨光刻機技術，河蘭阿斯慢公司雖然已經研究出來了，並且已經投產了，但其實性能並不是很穩定，產能很低，技術尚且不成熟。
一直到二零一六年，河蘭阿斯慢公司才完成了，對EUV光刻機技術的突破，並最終實現了EUV光刻機的量產，一舉壟斷了全球的EUV光刻機市場。
星光科技集團想要研發EUV光刻機技術，難度可以說是非常的大，而且這也不僅僅只是投資多少研發費用的問題。
13.5nm引領下一代光源，新技術面臨巨大挑戰，更先進的 EUV光刻系統，採用波長為13.5nm的極紫外光作為曝光光源，是之前193nm的1/14。
該光源被稱為雷射等離子體光源，是通過用高功率二氧化碳雷射器激發錫（Sn）金屬液滴，通過高價Sn離子能級間的躍遷獲得13.5nm波長的輻射。
除了這些問題之外，該光源的穩定性和聚光元件的保護，也是巨大的挑戰。
因為用於激發的雷射器本身存在抖動，雷射與等離子體作用時產生的污染將會對光源聚光元件造成影響和破壞。